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Multiscale process monitoring in Nanomanufacturing Sihem Ben Zakour Taschenbuch - Bild 1 von 1

Multiscale process monitoring in Nanomanufacturing von Sihem Ben Zakour (2012, Taschenbuch)

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buchbaer (63472)
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Über dieses Produkt

Produktinformation

The detection of the end of polishing during the chemical mechanical planarization (CMP) process is a critical task in semiconductor manufacturing. Even the research in CMP has grown and developed, one cannot predict the End point detection in order to avoid over or underpolishing wafer. The disadvantages of offline approach in endpoint detection have incited the researchers to discover an efficient substitute. In this Master thesis, an alternative approach named online method has been presented in which a sequential probability ratio test (SPRT) was developed and applied to the wavelet decomposed Acoustic emission data collected during the progression of the CMP process. Two dispersion parameters were used to detect endpoint, the first one standard deviation and the second the coefficient of variation. This test is shown to be efficient in controlling complex processes and appropriated for real-time application by developing a moving block strategy. This book is useful in industrial statistic especially in process control and also for in the field of the semiconductor production especially in CMP process.

Produktkennzeichnungen

ISBN-10
3659239720
ISBN-13
9783659239724
eBay Product ID (ePID)
165964627

Produkt Hauptmerkmale

Produktart
Lehrbuch
Sprache
Englisch
Anzahl der Seiten
92 Seiten
Verlag
Lap Lambert Academic Publishing
Publikationsname
Multiscale Process Monitoring in Nanomanufacturing
Autor
Sihem Ben Zakour
Format
Taschenbuch
Erscheinungsjahr
2012

Zusätzliche Produkteigenschaften

Hörbuch
No
Inhaltsbeschreibung
Paperback
Item Length
22cm
Item Height
6mm
Item Width
15cm
Item Weight
153g

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